學生半導體器件學習考研指導
我們在進行半導體器件的考研時,要多聽取他人的指導。小編為大家精心準備了半導體器件考研指導,歡迎大家前來閲讀。
哈爾濱工業大學半導體物理Ⅱ考研初試大綱考試科目名稱:半導體物理Ⅱ 考試科目代碼:[829]
一、考試要求:
要求考生系統地掌握半導體物理的基本概念和基本原理,並能利用基本原理分析半導體的物理性能。要求考生對半導體的晶體結構和能帶論、載流子統計分佈、載流子輸運過程、p-n結理論、金屬-半導體接觸理論、半導體光電效應等基本原理有很好的掌握,並能熟練運用分析半導體的光電特性。
二、考試內容:
1)半導體晶體結構和能帶論
a:半導體晶格結構及電子狀態和能帶
b:半導體中電子的運動
c:本徵半導體的導電機構
d:硅和鍺及常用化合物半導體的能帶結構
2)雜質半導體理論
a:硅和鍺晶體中的雜質能級
b:常用化合物半導體中的雜質能級
c:缺陷、位錯能級
3)載流子的統計分佈
a:狀態密度與載流子的統計分佈
b:本徵與雜質半導體的載流子濃度
c:一般情況下載流子統計分佈
d:簡併半導體
4)半導體的導電性
a:載流子的漂移運動與散射機構
b:遷移率、電阻率與雜質濃度和温度的關係
c:多能谷散射、耿氏效應
5)非平衡載流子
a:非平衡載流子的注入、複合與壽命
b:準費米能級
c:複合理論、陷阱效應
d:載流子的擴散、電流密度方程
e:連續性方程
6)p-n結理論
a:p-n結及其能帶圖
b:p-n結電流電壓特性
c:p-n結電容、p-n結隧道效應
7)金屬-半導體接觸理論
a:金-半接觸、能帶及整流理論
b:歐姆接觸
8)半導體光電效應
a:半導體的光學性質(光吸收和光發射)
b:半導體的光電導效應
c:半導體的光生伏特效應
d:半導體發光二極管、光電二極管
三、試卷結構:
a)考試時間:180分鐘,滿分:150分
b)題型結構
a:概念及簡答題(60分)
b:論述題(90分)
c)內容結構
a:半導體晶體結構和能帶論及雜質半導體理論(30分)
b:載流子的統計分佈(20分)
c:半導體的導電性(20分)
d:非平衡載流子(20分)
e:p-n結理論和金屬-半導體接觸理論(30分)
f:半導體光電效應(30分)
西安電子科技大學年半導體物理與器件物理考研大綱“半導體物理與器件物理”(801)
一、總體要求
“半導體物理與器件物理”(801)由半導體物理、半導體器件物理二部分組成,半導體物理佔60%(90分)、器件物理佔40%(60分)。
“半導體物理”要求學生熟練掌握半導體的相關基礎理論,瞭解半導體性質以及受外界因素的影響及其變化規律。重點掌握半導體中的電子狀態和帶、半導體中的雜質和缺陷能級、半導體中載流子的統計分佈、半導體的導電性、半導體中的非平衡載流子等相關知識、基本概念及相關理論,掌握半導體中載流子濃度計算、電阻(導)率計算以及運用連續性方程解決載流子濃度隨時間或位置的變化及其分佈規律等。
“器件物理”要求學生掌握MOSFET器件物理的基本理論和基本的分析方法,使學生具備基本的器件分析、求解、應用能力。要求掌握MOS基本結構和電容電壓特性;MESFET器件的基本工作原理;MOSFET器件的頻率特性;MOSFET器件中的非理想效應;MOSFET器件按比例縮小理論;閾值電壓的影響因素;MOSFET的擊穿特性;掌握器件特性的基本分析方法。
“半導體物理與器件物理”(801)研究生入學考試是所學知識的總結性考試,考試水平應達到或超過本科專業相應的課程要求水平。
二、各部分複習要點
●“半導體物理”部分各章複習要點
(一)半導體中的電子狀態
1.複習內容
半導體晶體結構與化學鍵性質,半導體中電子狀態與能帶,電子的運動與有效質量,空穴,迴旋共振,元素半導體和典型化合物半導體的能帶結構。
2.具體要求
半導體中的電子狀態和能帶
半導體中電子的運動和有效質量
本徵半導體的導電機構
空穴的概念
迴旋共振及其實驗結果
Si、Ge和典型化合物半導體的能帶結構
(二)半導體中雜誌和缺陷能級
1.複習內容
元素半導體中的雜質能級,化合物半導體中的雜質能級、位錯和缺陷能級。
2.具體要求
Si和Ge晶體中的雜質能級
雜質的補償作用
深能級雜質
Ⅲ-Ⅴ族化合物半導體中的雜質能級
等電子雜質與等電子陷阱
半導體中的缺陷與位錯能級
(三)半導體中載流子的統計分佈
1.複習內容
狀態密度,Fermi能級,載流子統計分佈,本徵和雜質半導體的載流子濃度,補償半導體的載流子濃度,簡併半導體
2.具體要求
狀態密度的定義與計算
費米能級和載流子的統計分佈
本徵半導體的載流子濃度
雜質半導體的載流子濃度
雜質補償半導體的載流子濃度
簡併半導體及其載流子濃度、簡併化條件、簡併半導體的特點與雜質帶導電
載流子濃度的分析計算方法及其影響載流子濃度的因素
(四)半導體的導電性
1.複習內容
載流子的漂移運動,遷移率,載流子的散射,遷移率與雜質濃度和温度的關係,電阻率與雜質濃度和温度的關係,強場效應與熱載流子
2.具體要求
載流子漂移運動
遷移率
載流子散射
半導體中的各種散射機制
遷移率與雜質濃度和温度的關係
電阻率及其與雜質濃度和温度的關係
強電場下的效應
高場疇區與Gunn效應;
(五)非平衡載流子
1.複習內容
非平衡載流子的產生與複合,非平衡載流子壽命,準費米能級,複合理論,陷阱效應,非平衡載流子載流子的擴散與漂移,愛因斯坦關係,連續性方程。
2.具體要求
非平衡載流子的注入與複合
準費米能級
非平衡載流子的壽命
複合理論
陷阱效應
載流子的擴散運動
載流子的漂移運動
Einstein關係
連續性方程的建立及其應用
●“器件物理”部分各章複習要點
(一)金屬-氧化物-半導體場效應結構物理基礎
1.複習內容
MOS結構的物理性質,能帶結構與空間電荷區,平帶電壓與閾值電壓,電容電壓特性
2.具體要求
MOS結構的物理性質
n型和p型襯底MOS電容器的能帶結構
耗盡層厚度的計算
功函數的基本概念以及金屬-半導體功函數差的計算方法
平帶電壓的定義與求解;閾值電壓的'影響因素;
MOS電容的定義,理想的C-V特性;影響C-V特性的主要因素
(二)MOSFET基本工作原理
1.複習內容
MOSFET基本結構,MOSFET電流電壓關係,襯底偏置效應。MOSFET的頻率特性。閂鎖現象
2.具體要求
MOSFET電流電壓關係的定性分析,漏極電流與柵壓之間的關係;
襯偏效應的概念及影響
小信號等效電路的概念與分析方法
MOSFET器件頻率特性的影響因素
CMOS基本技術及閂鎖現象
(三)MOSFET器件的深入概念
1.複習內容
MOSFET中的非理想效應;MOSFET的按比例縮小理論;小尺寸器件的閾值電壓;MOSFET器件的擊穿特性
2.具體要求
理解實際器件與理想特性之間的偏差及其原因
器件按比例縮小的基本方法動態電路方程及其求解
短溝道效應與窄溝道效應對MOSFET器件閾值電壓的影響
MOSFET器件的各種擊穿模式,擊穿電壓的影響因素
三、試卷結構與考試方式
1、題型結構:名詞解釋、簡答題、問答題、計算題、判斷題、繪圖題等。試卷滿分為150分。
2、考試方式:閉卷,考試必須按照規定攜帶不具備編程和存儲功能的函數計算器。
3、考試時間:180分鐘。
四、參考書目
1、《半導體物理學》(第七版),劉恩科、朱秉升、羅晉生等著,電子工業出版社 2011年3月。
2、《半導體物理與器件》(第4版)趙毅強等譯 電子工業出版社 2013年。
南京電子器件研究所考研調劑信息南京電子器件研究所始建於1958年,主要從事固態功率器件、微波毫米波模塊電路等專業技術的研發和生產,研製的核心芯片和關鍵元器件在我軍戰略預警、防空反導、精確打擊、機載火控等信息化裝備和載人航天等國家大型工程中發揮了舉足輕重的作用;科研進入了國家科技發展的“主渠道”,是國家科技重大專項核心電子器件領域的主要承擔單位之一,目前在三代半導體研製領域處於國內領先水平;積極推動軍民融合發展,民品產業進入國民經濟信息化建設的主戰場,形成了射頻電子、功率電子兩大支柱產業板塊。
碩士點以國家級重點實驗室為依託,擁有國內一流的科研條件,師資力量雄厚。南京電子器件研究所現有研發人員1500餘人,高工以上職稱354人,集團公司首席科學家2人,首席專家2人,享受政府特殊津貼55人,江蘇新世紀百千萬人才工程國家級人選2人。南京電子器件研究所是“單片集成電路與模塊重點實驗室”、“國家平板顯示工程技術研究中心”、“寬禁帶半導體電力電子器件實驗室”、“有源層優化生長技術研究應用中心”等國家級實驗室和工程中心的依託單位。建所以來,共取得科研成果3000多項,其中省(部)級以上科技進步獎560多項,國家級科技進步獎60多項,國家科學技術進步獎特等獎2項。
南京電子器件研究所招收的研究生為全日制學術型碩士,學制2.5年,且為定向培養。研究生第一年在東南大學選修課程,學分修滿後第二年回所做課題完成畢業論文。我所對在讀研究生實行獎學金制度,學生讀研期間免收學費及住宿費。在讀學生入住舒適的單身公寓,每月發放餐補。
2017年全國研究生招生考試成績已公佈,我所將接收調劑考生十多名。調劑條件如下:
一、學生畢業院校為:“985”和“211”等重點院校考生。
二、畢業專業:電子科學與技術、微電子學、電磁場與微波技術、電子信息工程等相關專業(計算機、自動化、機械等方向不接收)。
三、統考科目為數學一和英語一。
四、報考學位為全日制學術型學位。
符合上述條件,並且有志於為國防事業做出貢獻的考生,請將個人簡歷(含項目經驗、本科成績等)及我所調劑申請表(附件)發送郵件至:,並在郵件標題中註明姓名、畢業學校、專業及考研總分。